В марте 2026 года в ходе отраслевой научно-технической конференции заместитель министра промышленности Василий Шпак сообщил о старте работ по созданию литографа, предназначенного для производства полупроводников на топологии 90 нм. Исполнительные лица работ будут выбраны по результатам соответствующего конкурса. Однако детальная информация о процессах создания нового литографа от представителей Минпромторга не была раскрыта.
В этой области активную работу ведет Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ), который сотрудничает с белорусским предприятием «Планар». Данные компании уже разработали литографы на 350 нм и 130 нм. Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалёв отметил, что пока решения о участии в конкурсе принято не было.
На март 2026 года продолжаются работы над оборудованием с топологией 130 нм. ЗНТЦ планирует завершить разработку степпера с разрешением 130 нм к ноябрю 2026 года. Ожидаемая стоимость нового литографа составит 6 миллионов долларов, а его производительность может достигать от 100 до 140 пластин в час.
Эксперт РИНКЦЭ и академик МАСС Дмитрий Пшиченко пояснил, что разработка новог литографа может занять пять-десять лет и потребовать значительных инвестиций — сотни миллионов долларов. Если будут проводиться доработки существующих решений, срок может сократиться до двух-четырех лет. Он также подчеркнул, что наличие литографа — это лишь часть задачи, важна полная экосистема, включая фотошаблоны и EDA-инструменты.
Алексей Бойко, независимый эксперт из RUSmicro, добавил, что литограф 130 нм может быть адаптирован для чипов с разрешением 90 нм при помощи двукратного экспонирования, потребуются изменения в технологи и наборе компонентов.